产品介绍：

氧化铪（HfO₂）是一种以铪元素与氧元素为核心组成的高熔点氧化物陶瓷材料，具有稳定的物理化学性质与优异的综合性能，在先进材料领域占据重要地位。在应用领域，氧化铪是微电子行业的关键材料之一，常被用作半导体芯片中的高 k 栅介质层，有效解决传统二氧化硅介质层漏电的问题，助力芯片集成度与性能的提升；在高温陶瓷领域，它可用于制备耐高温涂层、火箭发动机燃烧室等耐高温部件，适配极端工况需求；此外，在光学材料、核工业等领域，氧化铪也凭借其独特的性能，展现出重要的应用价值与发展潜力。

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